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韩联社报道，据韩国检方5月7日消息，一名前SK海力士中国法人员工因涉嫌非法泄露半导体核心技术，被以违反《产业技术保护法》等罪名，在被拘留状态下正式起诉。
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韩联社报道，据韩国检方5月7日消息，一名前SK海力士中国法人员工因涉嫌非法泄露半导体核心技术，被以违反《产业技术保护法》等罪名，在被拘留状态下正式起诉。 首尔中央地方检察厅信息技术犯罪调查部表示，该嫌疑人金某（50多岁）于2022年间，非法窃取并泄露了SK海力士的先进半导体技术及与营业相关的商业机密。
调查显示，金某在接到中国华为旗下子公司“海思半导体”（HiSilicon）的跳槽邀请后，为获得职位擅自打印公司内部文档，并偷拍了逾1万张含有机密资料的照片，严重违反公司信息安全规定。
此案引发韩国社会对高新技术流失问题的高度关注，检方也强调将严厉打击跨国技术泄密行为，以维护国家核心产业安全。
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